DLC膜的多氣源制備及應用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、類金剛石膜(Diamond-Like Carbon，DLC)是一種介于金剛石和石墨之間的非晶結構材料。類金剛石膜具有和金剛石類似的許多獨特的優(yōu)良性能，因此被廣泛應用在機械、光學、電學以及生物等領域。
　　等離子體化學氣相沉積(PECVD)法是生長含氫DLC膜的常見方法，通常把襯底放在PECVD腔體中的源電極上生長DLC薄膜，這樣生長的DLC膜具有更高的硬度。本文采用浸入式PECVD方法生長DLC薄膜，把襯底浸入到等離子體中，使其面

2、臨的電場強度和離子團密度等生長參數(shù)有別于源電極式PECVD法，因而獲得的DLC薄膜樣品也具有不同結構和性質。本文分別采用甲烷和乙炔為源氣體制備一系列DLC膜，并利用原子力顯微鏡、掃描電鏡、納米壓痕儀、紫外-可見光分光光度計、拉曼測試儀以及接觸角測量儀等設備測試和表征所獲樣品，并分析源氣體對DLC膜結構性質的影響。
　　研究結果顯示，以乙炔為源氣體沉積的DLC膜比以甲烷為源氣體沉積的DLC膜具有更高的硬度和更快的沉積速率;在保持低內

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