掩模臺機械系統(tǒng)設計及仿真.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、光刻機是集成電路產(chǎn)業(yè)的基礎設備，光刻機的線寬決定著集成電路的特征尺寸。光刻機研制水平的提高能夠帶動整個集成電路產(chǎn)業(yè)界的技術升級，能夠有效地促進國家經(jīng)濟的發(fā)展和提高國家高技術領域的核心競爭力。光刻機儼然已成為衡量國家綜合國力的重要標志。極紫外光刻機是當今光刻機研制中的熱點。掩模臺是極紫外光刻機中的核心組成部分，由于極紫外光刻機套刻精度和產(chǎn)業(yè)化的要求，掩模臺要實現(xiàn)高速大行程的納米級運動，這使得掩模臺成為了一個電、氣、磁耦合的復雜機械系統(tǒng)。<

2、br>　　利用SolidWorks、ANSYS靜力分析、ANSYS模態(tài)分析和ANSYS拓撲優(yōu)化初步完成了對掩模臺的結構設計和優(yōu)化，使其固有頻率和質量都能達到設計要求。掩模臺設計成宏動臺和微動臺的雙級結構。宏動臺采用“H”型直線電機驅動和氣浮導軌支撐，微動臺采用音圈電機驅動和支撐。
　　直線電機的啟動和停止會引起掩模臺的超調(diào)，因此對微動臺、掩模支撐系統(tǒng)、基座系統(tǒng)分別進行了瞬態(tài)分析，得到了相應的穩(wěn)定時間。直線電機的電磁力存在周期性的波

3、動，這個波動會影響宏動臺的振動。利用ANSYS諧分析得到了掩模支撐系統(tǒng)的最大振動幅值。為了得到外界干擾的影響，對基座系統(tǒng)進行了隨機振動分析。
　　利用SolidWorks、GAMBIT和FLUENT完成了對氣浮導軌的設計，使得每個氣浮滑塊豎直剛度為93.46 N/μm，水平剛度為121.56 N/μm。
　　掩模板的變形會直接影響到套刻精度，因此對掩模板進行了熱-結構耦合分析。當掩模板變形產(chǎn)生的套刻誤差超出設計指標值時，提出

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