氧化鐠基陶瓷的微觀結構及其非線性電學特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、Pr6O11壓敏陶瓷是一類新型的壓敏電阻材料,是我們課題組最早發(fā)現(xiàn)的。與傳統(tǒng)的ZnO壓敏電阻材料相比,純Pr6O11陶瓷具有非線性電學行為,而且微觀結構簡單。根據(jù)課題組的大量研究發(fā)現(xiàn)Pr6O11陶瓷的壓敏性能穩(wěn)定性高,抗老化能力強;純Pr6O11壓敏陶瓷的微觀結構簡單,由單相構成,便于探究壓敏特性的機理。課題組的實驗結果表明氧化鐠壓敏陶瓷的燒結性能差和非線性系數(shù)低,這些缺陷將限制它在微電子集成電路中保護領域的應用。本文結合課題組以前的研

2、究,采用Sb、Al、Dy、Y和Er元素氧化物摻雜,研究這些三價氧化物摻雜對Pr6O11陶瓷微觀結構、燒結性能和壓敏特性的影響。
   實驗結果表明Sb2O3摻雜明顯地改變了Pr6O11陶瓷微觀結構、燒結性能和壓敏特性。Sb摻雜促進了氧化鐠陶瓷的晶粒生長和致密化,提高了Pr6O11陶瓷的燒結性能。SEM和XRD實驗結果表明了Sb原子在Pr6O11晶格中發(fā)生了缺陷反應,形成了更多的氧空位。氧空位減小了物質傳輸?shù)恼系K,提高了物質的擴散

3、系數(shù),從而促進了氧化鐠陶瓷晶粒生長和致密化。摻雜濃度1.0mol%的樣品具有最大的晶粒尺寸,達到了16.4μm;摻雜濃度為2.0mol%的樣品得到了高致密的氧化鐠陶瓷。改變燒結溫度和燒結時間影響了Pr6O11陶瓷微觀結構。Pr6O11陶瓷的平均晶粒尺寸和相對密度隨著燒結溫度升高,先增加然后減小。燒結時間促進了氧化鐠陶瓷晶粒生長和致密化。在燒結降溫階段,Pr6O11陶瓷的晶界被氧吸附,吸附氧易于氧化鐠晶格中自由電子結合,在晶界形成肖特基勢

4、壘,產生非線性電學行為。微量Sb摻雜促進了氧空位的形成,提高了氧空位濃度,促進了晶界氧吸附,提高了Pr6O11陶瓷壓敏特性。增加燒結時間提高了氧化鐠陶瓷的非線性指數(shù),降低了漏電流。
   燒結溫度對Al摻雜的Pr6O11陶瓷的微觀結構和致密度產生了重大的影響。在1150℃燒結的氧化鐠陶瓷樣品,Al2O3摻雜濃度明顯地改變了Pr6O11陶瓷的微觀結構和相對密度。Al元素在1150℃燒結時促進了氧空位形成,氧化鐠晶格中丟失氧原子,造

5、成了晶格畸變,改變了氧化鐠晶面間距,導致了Pr6O11的XRD衍射峰位置左移。形成的氧空位促進了物質的傳輸,促進了陶瓷晶粒生長和致密化。增加的氧空位為氧吸附提高位置,增加了晶界勢壘高度,提高了氧化鐠陶瓷的非線性系數(shù)。在1150℃燒結時,Al摻雜明顯地提高了陶瓷的非線性系數(shù),降低了漏電流,摻雜濃度為2.0mol%的樣品的非線性系數(shù)達到了107.6。
   三價稀土Dy,Y和Er氧化物摻雜能夠改善Pr6O11陶瓷的壓敏特性。微量Dy

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