光輔助AG-ZnO復(fù)合納米材料的場發(fā)射特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、氧化鋅(ZnO)納米材料具有禁帶寬(3.37eV),光電性質(zhì)良好,化學(xué)穩(wěn)定性高,在高場強(qiáng)下,能帶易彎曲等優(yōu)點(diǎn),被認(rèn)為是最有前途的場發(fā)射陰極材料之一。陰極材料是場發(fā)射顯示器(Field Emission Display, FED)電子源的核心,因此氧化鋅納米材料的場發(fā)射性能具有相當(dāng)重要的研究價(jià)值。
  首先,通過溶膠凝膠-水熱兩步法在少層晶種膜上制備ZnO納米棒陣列。為了研究晶種膜對ZnO納米棒生長的影響,不同層數(shù)晶種膜(2,4,6

2、,8層)被制備,利用掃描電子顯微鏡、X射線衍射(XRD)、對晶種膜和晶種膜上生長的ZnO納米棒進(jìn)行表征。結(jié)果表明晶種膜層數(shù)為4時(shí),ZnO納米棒取向性最好,密度最大。同時(shí)用紫外熒光分光光度計(jì)測試了材料的光致發(fā)光(PL)性能,通過分析紫外發(fā)射峰和可見藍(lán)光發(fā)射峰的峰位及其峰強(qiáng)比,發(fā)現(xiàn)4層晶種膜上生長的ZnO納米棒具有最多的本征缺陷,其導(dǎo)電性最好,通過場發(fā)射測試研究,4層晶種膜上生長的ZnO納米棒具有最低的開啟電場,13.3V/μm,最大的發(fā)射

3、電流,及最大的有效發(fā)射電流面積,其優(yōu)異的場發(fā)射性能來源于材料具有較大的場增強(qiáng)因子、較好的導(dǎo)電性、較高的密度和良好的垂直取向性。
  其次,利用水熱法制備了Ag-ZnO復(fù)合納米材料,分別添加不同濃度的Ag+,通過XRD,掃描電子顯微鏡(SEM),透射電子顯微鏡(TEM)對復(fù)合材料進(jìn)行表征,發(fā)現(xiàn)隨著Ag+離子濃的度增加,Ag納米顆粒的含量越來越多。通過PL光譜分析,Ag的加入使得可見光發(fā)射峰的數(shù)量增加和紫外發(fā)射峰數(shù)量減少,導(dǎo)致Ag-Z

4、nO的本征缺陷增加。通過場發(fā)射性能測試,發(fā)現(xiàn)Ag的含量越多,場發(fā)射性能越好。根據(jù)Fowler-Nordheim(F-N)理論對,對電流曲線進(jìn)行e指數(shù)擬合分析,實(shí)驗(yàn)曲線由不同e指數(shù)曲線組成,每一種的e指數(shù)曲線代表一種電子發(fā)射過程。結(jié)果表明Ag-ZnO納米材料的場發(fā)射過程包括有Ag的發(fā)射和ZnO價(jià)帶的發(fā)射。
  光輻照能夠使得一部分缺陷能級上的電子吸收光子能量,發(fā)射出去,從而增強(qiáng)場發(fā)射電流,因此本文討論了藍(lán)色可見光和紫外光光輻照對Zn

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