等離子體源離子注入及輝光放電過(guò)程中脈沖鞘層動(dòng)力學(xué)研究.pdf_第1頁(yè)
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1、針對(duì)等離子體源離子注入(PSII)過(guò)程中的直流脈沖(DC)鞘層,本文建立了兩維自洽流體動(dòng)力學(xué)模型,模型包括描述離子的連續(xù)性方程、動(dòng)量方程、電子Boltzmann分布,以及描述鞘層中電勢(shì)分布的泊松方程.利用這一模型研究了等離子體鞘層中各種物理量的時(shí)空演化規(guī)律,為低氣壓輝光放電過(guò)程建立了漂移擴(kuò)散流體動(dòng)力學(xué)模型,研究了在連續(xù)的直流脈沖偏壓作用下,在氮?dú)庵袑?shí)現(xiàn)氣體輝光放電的演化過(guò)程,利用兩維無(wú)碰撞自洽流體動(dòng)力學(xué)模型,考察了在無(wú)附加電極和在中心軸

2、線放置零電位圓柱狀附加電極兩種情況下,空心圓管端點(diǎn)附近脈沖偏壓等離子體鞘層的演化過(guò)程.利用Monte Carlo方法模擬離子在有附加零電位電極的空心圓管內(nèi)鞘層中行進(jìn)時(shí)的運(yùn)動(dòng)軌跡,考察了離子在等離子體鞘層中與中性氣體粒子碰撞對(duì)離子注入能量和注入角度的影響.通過(guò)在不同半徑的鞘層邊界上隨機(jī)抽取與半徑成正比的離子數(shù)量,計(jì)算了空心圓管中的所有離子注入圓管內(nèi)表面的能量分布和角度分布.針對(duì)半圓形容器,考察了在無(wú)附加電極和在中心點(diǎn)放置零電位球形附加電極

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