iNOS和VEGF在大鼠牙髓損傷修復中的表達和意義.pdf

1、目的：
　　 誘導型一氧化氮合酶(inducible nitric oxide synthase,iNOS)是機體合成NO的最主要限速因子之一,可以使體內(nèi)產(chǎn)生高出生理濃度的一氧化氮(nitric oxide,NO)[1]。而NO是細胞信息傳遞的重要調(diào)節(jié)因子,猶如一把雙刃劍廣泛參與了機體的生理及病理過程[2]。
　　 牙齒在受各種刺激如損傷、根折、正畸力作用及可逆性牙髓炎時可引起牙髓內(nèi)一些細胞分泌各種多肽類生長因子,從而增

2、加血管通透性,促進血管生成。血管生成是牙本質(zhì)成功修復的前提,血管內(nèi)皮生長因子(vascular endothelial growthfactor,VEGF)就是其中一種重要的血管生成因子。
　　 牙髓受到各種刺激如創(chuàng)傷等可以使牙髓組織產(chǎn)生一系列的反應,具有一定的抵御刺激、進行自身修復反應的能力,但是牙髓修復的機制尚不明確。本研究旨在探討iNOS和VEGF在大鼠牙髓機械損傷后修復過程中的表達和二者之間的關(guān)系,及不同蓋髓劑直接蓋髓后

3、iNOS表達變化和分布規(guī)律,為iNOS在牙髓損傷修復中的作用機制提供實驗依據(jù)。
　　 材料和方法
　　 制備大鼠牙髓機械損傷模型及氫氧化鈣(calcium hydroxide,CH)和礦物三氧化物凝聚體(mineral trioxide aggregate,MTA)直接蓋髓模型,分別于處理后即刻、1d、3d、7d、14d、21d、28d用4％多聚甲醛心臟灌流固定、取材、脫鈣后常規(guī)石蠟包埋,制備切片,采用免疫組織化學染色(

4、SABC法)觀察牙髓機械損傷組牙髓的病理變化及iNOS和VEGF表達情況,和蓋髓組iNOS的表達變化,用顯微照相系統(tǒng)及圖像分析軟件測定各組標本陽性染色的平均光密度值(optical density,OD)。利用SPSS13.0統(tǒng)計軟件對所得數(shù)據(jù)進行單因素方差分析(ANOVA)、Pearson相關(guān)分析及配對t-檢驗,P<0.05時有顯著性差異。
　　 結(jié)果：
　　 1、在正常牙髓組織中iNOS染色呈陰性,開髓即刻牙髓中iN

5、OS出現(xiàn)低水平表達,3d組牙髓iNOS出現(xiàn)強陽性表達,損傷7d后iNOS表達開始減弱,損傷21d后接近正常水平。表達主要位于中性粒細胞,成纖維細胞,成牙本質(zhì)細胞和少數(shù)血管內(nèi)皮細胞。損傷后1d、3d、7d、14d iNOS表達強度與正常對照有差異。
　　 2、正常牙髓VEGF在血管內(nèi)皮細胞染色呈強陽性,成牙本質(zhì)細胞染色弱陽性或無著色。牙髓損傷后,VEGF表達強度呈現(xiàn)先增加后降低的趨勢,3d時表達最強,7d略有降低,后逐漸降低至28

6、d時接近正常水平。表達主要位于血管內(nèi)皮細胞,成纖維細胞,中性粒細胞,部分成牙本質(zhì)細胞。損傷后1d、3d、7d、14d VEGF表達強度與正常對照有差異。
　　 3、Pearson相關(guān)分析顯示,iNOS與VEGF在牙髓損傷修復中的表達呈正相關(guān)關(guān)系(r=0.817,P<0.05)。
　　 4、兩蓋髓組即刻牙髓中iNOS出現(xiàn)低水平表達并逐漸增強,3d時達到高峰,7d后表達開始減弱,21-28d接近正常水平。MTA直接蓋髓同一時

7、點牙髓炎癥程度較CH組低,修復性牙本質(zhì)形成較CH組多,CH蓋髓后3diNOS表達顯著強于MTA組。
　　 結(jié)論：
　　 1、大鼠牙髓損傷后,iNOS和VEGF的表達均呈先增高后降低的趨勢,二者的表達變化與牙髓早期炎癥狀態(tài)和后期修復程度有關(guān),iNOS和VEGF的表達強度具有正相關(guān)性。
　　 2、CH直接蓋髓炎癥及壞死程度較MTA組重,3d時iNOS顯著高于MTA組,MTA可能通過某種途徑降低牙髓iNOS活性,使牙髓