水溶液體系電沉積SmCo薄膜的制備工藝及微結構的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、由于SmCo薄膜具有非常好的磁性,使其在高密度磁存儲器和微機電系統(tǒng)(MEMS)上具有重要的應用前景。本文采用直流電沉積方法,從水溶液中制備了Co及SmCo合金薄膜。其具體的工作如下: 1.采用直流恒壓電沉積法制備了Co單質薄膜。通過掃描電鏡(SEM)對所制備的Co薄膜進行了形貌觀測。觀測表明,沉積膜表面上的顆粒大小基本均一,顆粒的直徑約為200~300nm;由X射線衍射儀(XRD)檢測Co沉積膜的結構,結果表明,沉積膜具有六方晶

2、體結構。 2.采用直流恒壓電沉積法制備了Sm-Co合金薄膜。 通過能譜分析儀(EDS)檢測了沉積膜的成份,檢測結果表明:在鍍液中沒有甘氨酸的情況下,沉積膜沉積膜中只有Co的成份;而有甘氨酸存在的情況下,沉積膜中含有Sm、Co的成份,說明,要使Sm離子在Co離子的誘導下發(fā)生了共沉積,必須要有甘氨酸的存在。而且,沉積膜中的成份會隨電壓的變化而發(fā)生變化,實驗結果表明,當電壓較低的時候,隨著電壓的升高,沉積膜中Sm的含量增加,但

3、是當電壓達到某一值時,沉積膜中Sm的含量,隨著電壓的升高反而會下降。 利用X射線衍射儀(XRD)檢測了熱處理前后沉積膜的結構。結果表明:沉積膜為非晶態(tài)結構,經(jīng)過熱處理后,沉積膜出現(xiàn)了Sm2Co7的六方晶相結構。 通過通過掃描電鏡(SEM)觀察了Cu片基底和磁控濺射Cu基底的表面形貌,觀察的結果表明:在Cu片上所制備的薄膜和在磁控濺射Cu基底上制備的薄膜在形貌上有很大的不同,這說明,基底對沉積膜的表面形貌是有影響的。另外,

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