PECVD鍍膜設(shè)備的控制系統(tǒng)開(kāi)發(fā).pdf

1、在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)與工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展進(jìn)程中,真空鍍膜技術(shù)處于非常重要的地位,往往由于一種新真空鍍膜設(shè)備的研制或一項(xiàng)新工藝的應(yīng)用,直接帶來(lái)巨大的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備(PECVD)可用于納米級(jí)功能薄膜、硬質(zhì)膜、光學(xué)薄膜的開(kāi)發(fā),本文的目的是開(kāi)發(fā)用于此種鍍膜設(shè)備的控制系統(tǒng)。本文選定沈陽(yáng)科學(xué)儀器研制中心正在研發(fā)的平板式太陽(yáng)能電池制備設(shè)備為研究對(duì)象,根據(jù)科研工藝的要求,開(kāi)發(fā)了一套以O(shè)PTO22公司產(chǎn)品為基礎(chǔ)的控制系統(tǒng)。該系

2、統(tǒng)采用基本的兩級(jí)控制結(jié)構(gòu),包括上位監(jiān)控級(jí)和下位控制級(jí),以工業(yè)控制計(jì)算機(jī)為主控制器,采用組態(tài)軟件編程,通訊、數(shù)據(jù)處理能力強(qiáng),控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)易于調(diào)整、升級(jí),抗干擾能力強(qiáng),通用性強(qiáng)?？刂萍?jí)開(kāi)發(fā)詳細(xì)論述了控制現(xiàn)場(chǎng)的硬件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。重點(diǎn)是以O(shè)PTO22公司的自帶編程的產(chǎn)品來(lái)對(duì)鍍膜設(shè)備進(jìn)行控制,通過(guò)PLC軟件程序簡(jiǎn)化了原有的硬件邏輯電路。裝、卸載控制系統(tǒng)為核心,結(jié)合伺服電機(jī)以脈沖量控制移動(dòng)的距離來(lái)對(duì)進(jìn)、出樣運(yùn)輸臺(tái)進(jìn)行控制。裝、卸載控制系統(tǒng)開(kāi)發(fā)和溫度控