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文檔簡介
1、以Si、Mo為起始原料，經預熱、反應燒結、最后熱壓燒結制成Si3N4/MoSi2復合陶瓷材料。利用X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)等對該材料的相結構和顯微結構進行了分析。對反應生成試樣及后熱壓燒結試樣進行了室溫及高溫機械性能測試，研究表明，從室溫至1200℃材料的抗彎強度隨溫度升高而明顯增加，并利用掃描電鏡對不同溫度下的斷裂面進行了顯微結構分析。 研究了不同MoSi2含量的Si3N4/MoSi2復合材料的高溫氧化行為，用
2、XRD和SEM分析材料氧化以后的相組成及顯微結構，探討了該材料的氧化機理和氧化膜的破壞方式，結果表明，不同MoSi2含量的Si3N4/MoSi2復合材料在1400℃空氣中氧化100h的氧化增量符合拋物線規(guī)律，隨著MoSi2的含量的增加，材料的氧化活化能升高，氧化后的強度損失率減小。 用Si、Mo和Nb作為起始原料通過預燒結、氮化反應和N2氣氛下的熱壓燒結制備出Si3N4/MoSi2/NbN復合材料，借助SEM和XRD等分析手段對
3、各階段樣品的相組成和顯微組織進行了表征，結果表明：在預燒結階段獲得了NbN、MoSi2和未反應的Si相；隨著溫度的提高，氮化反應生成了α-Si3N4和少量β-Si3N4；最后經熱壓燒結制備了Si3N4/MoSi2/NbN復合材料。 以Si3N4/MoSi2/NbN復合材料作為研究對象，研究了其在不同溫度下的氧化性能。利用XRD、SEM等分析手段對復合材料的氧化產物進行了測定。結果表明試樣在1150-1400℃溫度范圍內氧化出現了
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