Mg系列鈮酸鋰晶體光折變性能研究.pdf

1、本論文中采用提拉法生長(zhǎng)了一系列Mg：Fe：LiNbO3晶體，研究了晶體的生長(zhǎng)工藝、結(jié)構(gòu)及光學(xué)性能。探索出生長(zhǎng)同成分鈮酸鋰晶體合適的工藝參數(shù)（溫度梯度、晶體生長(zhǎng)速度、晶體旋轉(zhuǎn)速度），保持了平坦的固液界面。 晶體的紅外吸收光譜表明，當(dāng)鎂的摻量達(dá)到6mol％時(shí)，Mg：Fe：LiNbO3晶體吸收峰由低摻鎂量的3482cm-1附近移到了3535cm-1附近，說(shuō)明當(dāng)Mg2+的摻雜濃度為6mol％時(shí)已經(jīng)達(dá)到了閾值濃度。晶體的紫外-可見吸收光譜

2、表明，晶體隨摻鎂量的增大吸收邊發(fā)生紫移。提出了Mg在晶體中的占位模型：在摻Mg量低于閾值濃度時(shí)，Mg離子取代反位鈮NbLi；高于閾值濃度時(shí)，Mg離子同時(shí)進(jìn)入正常的Nb位和Li位。 測(cè)試了Mg：Fe：LiNbO3晶體的體全息存儲(chǔ)性能，包括衍射效率、響應(yīng)時(shí)間、擦除時(shí)間以及抗光致散射能力等，發(fā)現(xiàn)晶體中的Li/Nb比的變化以及晶體的氧化還原狀態(tài)都影響Mg：Fe：LiNbO3晶體的體全息存儲(chǔ)性能：Li/Nb比增大，衍射效率下降，響應(yīng)時(shí)間縮

3、短，抗光致散射能力增強(qiáng)。 對(duì)Mg：Fe：LiNbO3晶體進(jìn)行正交試驗(yàn)分析：討論Li/Nb比和Mg的含量對(duì)晶體的抗光損傷閾值、衍射效率、建立時(shí)間和擦除時(shí)間影響大小主次關(guān)系。 晶體的抗光損傷閾值影響大小主次關(guān)系為L(zhǎng)i/Nb比，Mg的含量及Li/Nb比與Mg的含量交互作用。晶體的衍射效率影響大小主次關(guān)系為，Li/Nb比，Mg的含量，Li/Nb比與Mg的含量交互作用。晶體的寫入時(shí)間影響大小主次關(guān)系為，Mg的含量，Li/Nb比，L