利用多弧離子鍍和磁控濺射制備含鈦陶瓷薄膜以及對膜性質(zhì)的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、該論文利用多弧離子鍍和磁控濺射技術(shù)在317L醫(yī)用不銹鋼及單晶Si(100)樣品表面,采用不同工藝制備TiN、TiNC、TiC等含鈦陶瓷薄膜.對所有薄膜的結(jié)構(gòu)和物理性能進(jìn)行測試和分析,比較幾種薄膜在硬度、耐磨性、耐腐蝕性等機(jī)械性能,并討論成纖維細(xì)胞,內(nèi)皮細(xì)胞在不同樣品表面、不同時(shí)間的貼壁生長和吸附特性.研究發(fā)現(xiàn),實(shí)驗(yàn)所制備的多弧TiN、TiNC、TiC和濺射TiN薄膜,成分穩(wěn)定,沿深度分布均勻,在薄膜表面都有碳、氧元素的污染.最后對薄膜的

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