強激光和等離子體對光學元件的表面潔凈處理研究.pdf

1、本文首先回顧了光學材料損傷的一般機理，指出了光學基片的表面狀況對光學材料的激光損傷情況有重要的影響。然后對脈沖激光的清洗機理以及等離子體清洗的一般性機理進行了闡述。從兩個方面進行了研究，第一個方面，對短脈沖激光的清洗效果進行了研究。用351nm短脈沖激光對熔石英、K9玻璃上的真空硅脂進行了清洗研究，發(fā)現(xiàn)在用351nm短脈沖激光清洗時，K9玻璃在前表面清洗時的效果要好于后表面，而對于熔石英卻相反，后表面的清洗效果要好于前表面。并對該現(xiàn)象進

2、行了解釋：根據(jù)光壓理論，熔石英、K9玻璃的后表面的壓力都大于前表面，所以在后表面都存在清洗效果，但是光熱透射技術表明，在351nm波長激光作用下，由于K9玻璃的熱吸收要遠大于熔石英，K9玻璃的熱膨脹效果要遠大于熔石英的熱膨脹效果，所以在迎光面的清洗效果較好。本文的另外一個重要研究方面就是用CO2連續(xù)激光和等離子體結合，對熔石英上的真空硅脂進行了清洗研究。通過光學顯微鏡、接觸角、透過率和損傷閾值測量表征了激光和等離子體對真空硅脂污染過的石