太陽能電池-制絨濕法刻蝕質量問題及處理方法

1、制絨質量問題：1、水片；出現(xiàn)原因：硅片在設備內部過工藝時發(fā)生破碎，造成此道后繼的硅片出現(xiàn)連片；解決方法：將帶水的硅片取出，用純水清洗干凈，放在片盒中置于M07模組后面晾干，同時用干凈的無塵布將出現(xiàn)水片的的滾輪與卸載機械手的皮帶擦拭干凈，防止后繼干燥的硅片再次被滴落在設備上的水污染；將水片晾干后，M2循環(huán)泵停，再過一次氫氧化鉀與M6槽；2、黃斑片出現(xiàn)原因：多孔硅沒有去除干凈，M4槽的液位低浸沒不到硅片或者是M4槽的電導率低，或者氫氧化鉀量

2、不足造成解決方法：將出現(xiàn)問題的硅片卡下，檢查設備有無問題，電導率與藥液的濃度是否正確，同樣不過氫氟酸與硝酸，只過氫氧化鉀與M6槽3、亮片出現(xiàn)原因：出現(xiàn)亮片很多都是在做再利用時候出現(xiàn)，由于腐蝕量過多造成解決方法：將亮片卡下，作為不合格片上交二級庫；4、做再利用時出現(xiàn)水片的處理方法在做再利用時出現(xiàn)水片，切忌不能在M2循環(huán)泵沒關閉的情況下直接投入，否則會造成出現(xiàn)亮片5、腐蝕量不合格的硅片：（1）、腐蝕量低的硅片，上下表面可能會比較暗，感覺就像

3、擴散后的硅片出現(xiàn)原因：M2槽內藥液濃度低，帶速過高，溫度過低，液位不足等都有可能造成硅片腐蝕不足；解決方法：將出現(xiàn)問題的硅片卡下，上交二級庫作為再利用片（2）、腐蝕量過高的硅片，可能會出現(xiàn)上下表面均有暗紋，并且暗紋很多；也有可能會出現(xiàn)發(fā)亮的硅片；出現(xiàn)原因：M2槽藥液濃度過高，帶速過低，溫度過高造成腐蝕量過高解決方法：將出現(xiàn)問題的硅片卡下，上報跟班技術員；如果是硅片雙面制絨，可能是氫氟酸含量過多造成；如果是發(fā)亮的硅片可能是硝酸濃度過高造成

4、；6、白斑片，硅片表面有一塊快的白斑出現(xiàn)原因：可能是M2槽后的風刀壓力太大，將藥液吹干成鹽造成解決方法：調整風刀壓力7、水點片，當硅片從M7出來后可能會帶有一些小水滴在上面出現(xiàn)原因：M7的風刀沒有將硅片吹干解決方法：停機，檢查風刀是否給堵塞住造成；濕法刻蝕工序其實一段時間以來，出了不少工藝上的問題，主要體現(xiàn)在：?腐蝕量低；主要表現(xiàn)在：㈠維護完，新配藥液，沒有充分的激活，藥液里面的NO2離子不足，解決方法：可以放一些碎片在藥液槽內進行激活

5、，也可以將一些NaNO2放入藥液槽，增加藥液的活性，直到腐蝕量達到工藝要求，抑或是手動去添加35L的HF去解決腐蝕量低的問題，此種情況需要不斷的去測試腐蝕量，直到腐蝕量穩(wěn)定后，才能生產。㈡生產過程中，由于長時間的停機，造成藥液槽酸液的揮發(fā)，造成腐蝕量與穩(wěn)定時的腐蝕量有一定的偏差，但是還可以繼續(xù)生產，具體恢復方法：手動的去按一定配比添加藥液，可以按初始配槽的比例去添加，也可以按2：1的比例去添加HNO3、HF。?對于低腐蝕量的要求：雖然現(xiàn)

6、在工藝上沒有明確的規(guī)定，但是根據相關的經驗，必須保證腐蝕量能滿足邊緣電阻大于1千歐，才能保證一個比較低的漏電以及高的并阻。所以現(xiàn)規(guī)定:腐蝕量必須要在2.5μm以上，低于此值必須通知帶班長，以及相關的技術人員，現(xiàn)行工藝若腐蝕量低于3μm一下，需通知班組長，進行調節(jié)。?連片的解決方法，以及如何判斷連片過程處理后，那些片可以轉下，那些片不可以轉下。處理方案，一般處理時間控制在10分鐘以內（為了確保轉下去的硅片合格，可以抽測硅片的方阻，沒有問題

7、再進行轉下），重新開機后，硅片可以轉下，其中可能由于連片，片與片之間有接觸，造成正面的刻蝕（搭角的，或者手接觸正面的），這部分片為不合格，必須將這部分片子挑出當后表面處理。?刻蝕后出現(xiàn)的黃斑邊緣：主要原因是酸腐蝕的產生的多孔硅，在經過堿洗的時候，沒有接觸到藥液，抑或是藥液濃度太低，造成的多孔硅去除不干凈，留下黃色的邊緣痕跡。解決辦法：若液位太低，可以適當?shù)奶岣哝I槽的泵速，提高液位，若電導率過低，就手動的添加KOH提高其電導率，達到設定條

8、件。如果由于液位過低，但提高泵速仍沒有效果的話，可以直接判斷是濾芯堵了，需要停機對濾芯進行清洗。?水片：風刀風機不夠，造成一些片子表面有水滴。處理方法：增大風機風量。?雙邊刻蝕的片子：由于轉盤的問題，造成一些片子經過轉盤的時候，沒有轉，只刻蝕了兩邊，此種硅片必須檢出，當后表面處理。?對于上交表面不合格的片子方向問題：上的硅片必須分清是蝕刻前還是蝕刻后的，必須使硅片的絨面一致，不能混放，亂放，造成再利用的時候，對工藝，對后續(xù)的工作增加了很