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文檔簡(jiǎn)介
1、該論文在調(diào)研與分析國(guó)際上高能加速器附設(shè)試驗(yàn)束的基礎(chǔ)上,結(jié)合BEPCⅡ及BESⅢ的改造和升級(jí)要求,簡(jiǎn)要介紹e、π次級(jí)束產(chǎn)生的機(jī)理,靶材料的選擇,粒子產(chǎn)額估計(jì),并給出了蒙特卡洛模擬計(jì)算的結(jié)果.初級(jí)束流線的分叉延長(zhǎng)有兩種運(yùn)行工作模式,其一是在直線加速器末端將束流偏轉(zhuǎn)22度,經(jīng)過(guò)相應(yīng)的輸運(yùn)系統(tǒng)引入10號(hào)廳形成E1束流線專用于慢正電子裝置(核分析實(shí)驗(yàn)室);其二是將E1線束流再偏轉(zhuǎn)18.6度,經(jīng)過(guò)輸運(yùn)和聚焦延長(zhǎng)至公用靶區(qū),提供1.1-1.8GeV電
2、子或正電子束流給次級(jí)束產(chǎn)生靶,通常稱作E2線;論述了兩種運(yùn)行模式的束流輸運(yùn),給出了各自的束流包絡(luò)圖.初級(jí)束打靶后產(chǎn)生e、π等多種次級(jí)粒子,次級(jí)試驗(yàn)束流(通常稱為E3線)在靶的15.4度產(chǎn)生角經(jīng)過(guò)真空管道引出,粒子束經(jīng)過(guò)四極磁鐵聚焦和能量分析磁鐵偏轉(zhuǎn),被運(yùn)輸至離靶區(qū)更遠(yuǎn)的位置,得到次級(jí)試驗(yàn)束,供給探測(cè)器刻度等試驗(yàn)使用.根據(jù)不同的實(shí)驗(yàn)要求,試驗(yàn)束可以提供不同動(dòng)量的e、π、μ及質(zhì)子單粒子束流.其次,闡述了次級(jí)束單粒子選擇的測(cè)量與控制方案.用于
3、探測(cè)器檢驗(yàn)和刻度的試驗(yàn)束,通常是單粒子束,單粒子的選擇首先通過(guò)硬件進(jìn)行.不同種類粒子的選擇,用飛行時(shí)間法(TOF)和契侖科夫(Cerenkov)計(jì)數(shù)器來(lái)實(shí)現(xiàn),而粒子的位置信息由多絲正比室(MWPC)描繪.論文給出探測(cè)器的設(shè)計(jì)方案、探測(cè)器的結(jié)構(gòu)及其制造工藝要求等,對(duì)探測(cè)器的性能進(jìn)行研究并給出參數(shù)測(cè)試結(jié)果,介紹多絲正比室?guī)追N函數(shù)擬合位置讀出和重心位置讀出的特點(diǎn),詳細(xì)論述陰極感應(yīng)電荷的重心讀出法及相關(guān)電子學(xué).最后,介紹了試驗(yàn)束動(dòng)量分散的控制方
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