用軟刻蝕技術制造聚合物微結構.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、"軟刻蝕"技術(Soft Lithography)是近年來發(fā)展起來的一種新型微制造技術,它是借助中介圖形轉移元件——彈性印章——把用昂貴設備生成的微圖形以簡便而又精確的方法復制出來的一類非光刻微制造術.與傳統(tǒng)的光刻技術相比,軟刻蝕具有顯著的優(yōu)點:操作過程簡單、成本低廉;不需要復雜昂貴的大型光刻設備,可以在普通實驗室很容易地展開;彈性印章一次模塑成型,可多次重復使用;可大面積、成批量制作微圖形;不受光學效應的影響,可以突破光刻術的100n

2、m極限;可以方便地在平面或曲面表面制作微細結構;既可以制造二維圖形,也可以制造三維的微結構;可以對圖形表面的化學性質加以改性控制,等等.過程方便快捷,靈活多變,結合選擇性化學刻蝕和誘導成核等手段,可以方便地制備出各種微米、亞微米、納米級的微細結構,并可進一步制成各種功能性器件,具有極好的潛在應用前景.該論文就是把"軟刻蝕"這一新型微制造技術結合到高分子科研中來,以制備各種聚合物微結構.我們首先對用于制作彈性印章的硅橡膠體系的組分配比進行

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