WO-,3-薄膜的制備及特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、　　本文采用真空鍍膜工藝分別在微晶玻璃襯底上沉積了金叉指電極和WO3薄膜，在實驗中WO3薄膜分別在300℃-600℃范圍內進行了退火熱處理。實驗中采用SEM、XRD、AFM等手段對制備的WO3薄膜進行了分析。分析表明，隨著退火熱處理溫度的升高，WO3晶粒逐漸增大，并逐漸從非晶態(tài)向晶態(tài)轉變，最終得到了六方結構并且是擇優(yōu)取向的WO3薄膜，獲得了穩(wěn)定性較好的工藝條件?！　∽詈髮O3敏感膜進行了濕度及NO2敏感特性測試，在分析退火溫度對WO

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