基于矩量法的電大尺寸目標局部照射下散射特性研究.pdf

1、隨著雷達技術的發(fā)展，由于強烈的工程應用背景，電大尺寸散射特性的研究一直廣受關注。本文主要研究電大尺寸物體在局部照射下的電磁散射特性。首先介紹了該項研究的重要性；其次，介紹并比較了現(xiàn)有的一些分析方法。論文在推導出實現(xiàn)局部照射的激勵源的基礎上，計算并分析一些電大結構的近場局部照射下的電磁散射特性。再次，提出了有效照射面積的概念，并加以數(shù)值證明，得出一些有用的結論。最后，本文采用全域基伽略金法分析電大金屬平板局部照射下的后向散射特性。

2、 第一章對最近十年來，國內外分析電大尺寸的方法、研究背景及其進展作了回顧。從計算時間、計算精度兩方面分析了現(xiàn)有這些方法的優(yōu)勢和局限性。介紹了本文的研究內容和創(chuàng)新之處。 第二章介紹了矩量法和電場積分方程。采用分域基函數(shù)法求解基于全等效電流的電場積分方程。分別采用脈沖基點匹配法和RWG基伽略金法求解電大金屬平板在平面波照射下的RCS，并對二者的結果進行了比較和分析。 第三章推導了局部照射源的表達式，并介紹了采用Matlab語

3、言建立散射體模型的方法。這里的激勵源是經過一個天線方向圖加權的球面波表達式，實現(xiàn)了窄波束的局部照射。采用Matlab語言建立了平板、柱錐組合體、球體等幾何模型，同時實現(xiàn)了網格的劃分。 第四章根據(jù)第二章的積分方程解法和第三章的激勵源及Matlab建立的模型，求解某些結構在局部照射下的電磁散射特性。選取的電大金屬散射體有：平板、柱錐組合體等。首先，將局部照射的激勵源置于無窮遠處，將得出的RCS與平面波照射結果比對，以證明激勵源的正確

4、性；接下來，改變激勵源的位置，計算不同的后向散射曲線，并分析出一些有用的信息，這對某些雷達系統(tǒng)有著重要的應用價值。 第五章采用全域基伽略金法計算電大尺寸的散射特性。采用的基函數(shù)以多項式或正、余弦函數(shù)為主，因為它們能很好的表現(xiàn)金屬散射體表面的電流分布，從而能加快計算速度同時又保證計算精度。通過平面波照射得到的結果，驗證了方法的正確性。另外，分析和比較了隨著局部照射激勵源位置不同，電大金屬板后向散射發(fā)生的變化，這一結果對雷達系統(tǒng)有較