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文檔簡介
1、本文采用磁控濺射法制備了NdFeB單層膜以及NdFeB/Co交替多層膜，利用SEM、AFM、XRD、VSM、SQM、SQUID等方法，測定了薄膜的厚度、表面形貌、相結(jié)構(gòu)和磁性能等，同時分析了調(diào)制結(jié)構(gòu)和退火工藝對NdFeB/Co交替多層膜的微觀結(jié)構(gòu)及磁學性能的影響。 結(jié)果顯示，薄膜的沉積速率隨磁控濺射功率的增加而增大，隨濺射氣壓的升高先增大后減?。槐∧ず穸扰c濺射時間近似成正比；形貌分析顯示，沉積速率是薄膜表面質(zhì)量的關鍵影響因素。后
2、續(xù)退火可以使濺射態(tài)非晶的NdFeB/Co多層膜晶化出Nd2Fe14B相和Co相。退火后薄膜更加平整、致密。隨退火溫度的增加，薄膜晶粒尺寸增大。經(jīng)過適當退火工藝處理的多層膜具有較高的矯頑力、剩磁比和良好的垂直磁各向異性。 分析表明，調(diào)制結(jié)構(gòu)對多層膜的磁性能有很大影響。薄膜矯頑力隨著多層膜中Co層厚度的增大而下降，隨多層膜中NdFeB層厚度增大而增大。多層膜中NdFeB層厚度為100nm，Co層厚度為10～30nm時，薄膜剩磁比較大
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