多靶磁控濺射鍍膜工藝控制系統(tǒng).pdf

1、隨著鍍膜技術的不斷發(fā)展，優(yōu)化鍍膜裝置以及相應的工藝技術一直是薄膜制備領域內科技人員的研究方向。然而磁控濺射鍍膜技術可制備超硬膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜，以及各種具有特殊功能的薄膜，在工業(yè)薄膜制備領域內得到了非常廣泛的應用。本文以磁控濺射鍍膜為前提背景，研究與設計具有可行性的多濺射靶的濺射鍍膜工藝控制系統(tǒng)，使之能完成對磁控濺射工藝中的運行設備、儀器等的數(shù)據(jù)采集與處理和在線控制與調節(jié)，并在實現(xiàn)可靠運行時，保證通信的快速

2、穩(wěn)定，使得人機接口界面友好，操作靈活、方便。
　　本文依據(jù)磁控濺射的技術要求，按照具體實行工藝運作的規(guī)范，綜合考慮現(xiàn)有的硬件條件，提出了對于多濺射靶磁控濺射的完整的控制系統(tǒng)設計。即系統(tǒng)在結構上分為上位計算機控制層和下位控制器控制層兩級，并通過串行口進行實時數(shù)據(jù)通信。下位控制層以K21多功能控制器為主要控制單元，通過合理配置I/O模塊與現(xiàn)場控制設備以及儀器進行控制連接，采用現(xiàn)場總線技術，搭建485通信網(wǎng)絡，利用MODBUS總線協(xié)議，

3、保證控制器與設備間的信息交換，同時，利用RS-485通信口與上位機進行良好通信;上位監(jiān)控層則以PC機為中心，利用VC6.0為平臺設計控制程序，制作控制系統(tǒng)人機界面，使其完成工藝操作，對例如氣體流量、濺射功率等工藝參數(shù)進行設置與顯示，并且數(shù)據(jù)保存，監(jiān)控系統(tǒng)運行狀態(tài)等基本功能。
　　本文設計的多靶磁控濺射工藝控制系統(tǒng)應用于具體的工程實例后，得到了良好的應用效果，并且滿足了對于整體設計的預期需求。同時，本文設計的系統(tǒng)在結構上具備一定程度