可變線寬的無掩膜光刻理論與技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、　　本論文研究了無掩膜光刻調焦系統(tǒng)的光學原理與設計，還研究了可變線寬的離焦光刻理論，此外也對無掩膜光刻系統(tǒng)的實現(xiàn)和應用進行了分析?！　≡谡{焦方案的選擇方面，首先對基于能量信息的離焦信號進行了穩(wěn)定性分析，然后分別研究了基于四象限探測器的象散調焦法和基于單象限探測器的共焦調焦法，最終選擇采用基于二象限探測器的離軸調焦方案，并對此新方案進行了詳盡的研究和分析，包括離焦信號的算法、光學參數(shù)的優(yōu)化、光斑橢圓化、微動臺的物理模型等。　　在離焦光

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