

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、功率器件的核心問題是功耗問題。高壓器件決定功耗的因素是器件的耐壓和比導(dǎo)通電阻。常規(guī)超薄SOI器件能夠改善器件耐壓和比導(dǎo)通電阻的關(guān)系,但是其存在很嚴(yán)重的熱點問題,會影響器件的可靠性。本文就此提出了兩種新型超薄SOI功率器件。
1、本文提出一種積累型超薄SOI(Silicon On Insulator)LDMOS(Lateral Double-diffused Metal Oxide Semiconductor)器件結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)在
2、漂移區(qū)表面添加了一個PNP場板,該場板分別于漏端和柵端電氣相連。反向阻斷時,場板輔助耗盡漂移區(qū),提高漂移區(qū)濃度;正向?qū)〞r,器件漂移區(qū)表面形成電子積累層,降低比導(dǎo)通電阻。電子積累層不僅降低了電阻,而且還消除了器件表面的熱點問題。仿真結(jié)果表明,在保持相近耐壓時,器件的比導(dǎo)通電阻降低為五分之一,為21.1mΩ·cm2;相同功率下,器件表面最高溫度降低了71K。最后,根據(jù)實際提供了兩種工藝實現(xiàn)方法。
2、本文提出一種具有背部刻蝕的積
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 高壓低阻SOI橫向功率器件研究.pdf
- 新型SOI LDMOS高壓器件研究.pdf
- 新型介質(zhì)場增強(qiáng)SOI高壓器件研究.pdf
- 新型低阻可集成SOI橫向功率器件研究.pdf
- 傾斜表面SOI橫向高壓器件的工藝與特性研究.pdf
- 槽型低阻SOI橫向功率器件研究與設(shè)計.pdf
- 200V SOI工藝高壓ESD保護(hù)器件設(shè)計.pdf
- 新型SOI MOSFET器件結(jié)構(gòu)研究與電特性分析.pdf
- 高壓SOI LDMOS器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計與仿真.pdf
- 基于增強(qiáng)介質(zhì)層電場技術(shù)的新型SOI高壓器件研究.pdf
- 薄層SOI高壓LDMOS器件模型與特性研究.pdf
- 基于器件數(shù)值仿真軟件的薄層SOI高壓器件設(shè)計.pdf
- 高壓SOI LDMOS器件結(jié)構(gòu)設(shè)計與模擬研究.pdf
- 高壓厚膜SOI-LIGBT器件優(yōu)化設(shè)計.pdf
- 新型功率SOI橫向器件研究.pdf
- 電荷型高壓SOI器件模型與新結(jié)構(gòu).pdf
- SOI高壓MOS器件擊穿特性研究.pdf
- 一種超薄SOI橫向高壓器件的研究與設(shè)計.pdf
- 基于橫向可變降低表面電場技術(shù)的新型SOI高壓器件研究.pdf
- SOI橫向高壓器件縱向耐壓理論與新結(jié)構(gòu).pdf
評論
0/150
提交評論